目前主要的显示器件有CRT（阴极射线管）、TN/STN-LCD（扭曲/超扭曲液晶显示器）、TFT-LCD（薄膜晶体管液晶显示器）、FED（场发射显示器）、VFD（真空荧光显示器）、OLED（有机发光显示器）和PDP（等离子显示器）。人们日常生活、工作中的大屏幕电视、计算机显示器、笔记本电脑、手机、数码相机、数码摄像机等终端产品无一不是上述显示器件的应用。而生产制作显示器件需要的关键材料之一即为“高精度的玻璃掩膜版（wafer）”,掩膜版的主要基础材料为石英玻璃或苏打玻璃，石英玻璃或苏打玻璃经过精密加工后表面镀覆光刻曝光用膈膜。目前国际上光掩模基板的制造技术主要是日本、韩国、中国台湾处于领先地位，近两年来我国部分企业在跟踪国际现金技术的前提下，在各地政府的高调支持下已逐步建成自主知识产权的光掩模基板生产线。现阶段玻璃精密加工技术、镀膜、光刻技术已接近国际先进技术，但在关键基础材料----石英玻璃的制备方面与国际先进水平尚有一定距离，高纯度（SiO2含量99.9999%以上）、小尺寸（8in（lin=2.54cm）、200*200mm以下）可自主生产，大尺寸的石英玻璃基板制备处于落后状态，仍需依赖进口，而在生产光掩模基板的整个过程汇总玻璃基片所占的比例为70%。
目前国内已可规模化生产的应用于液晶显示器（LCD）、有机电致发光显示器（OLED）、等离子体显示板（PDP）等平板显示（FPD）行业和集成电路（IC）及其封装（ICP）等行业铬板掩膜版有：
1、 TFT、彩色STN、STN和TNLCD铬板掩膜版；
2、 EL、OLED铬板掩膜版
3、 PDP、VFD铬板掩膜版
4、 IC封装、HDI，包括BGA、CSP、BUMPING等生产用铬板掩膜版
5、 IC Lead Frame用铬板掩膜版
6、 MEMS、SENSOR和ENCODER等精细电子元器件用铬板掩膜版。
玻璃基片所用材料由所生产的显示器的种类、规格尺寸决定，主要有两种：石英玻璃和苏打玻璃。一般小尺寸、高分辨率的用石英玻璃，大尺寸、分辨率要求低的用苏打玻璃。而石英玻璃基片通常需要采用SiCl4合成法熔炼的高纯、高均匀合成石英玻璃。
在规格尺寸方面，国际上已有通用标准，如标准“Square型”；2500型即为63.1*63.1*1.5mm、6025型为152*152*6.35mm、7012型为177.4*177.4*3.05mm。标准“Square型”：P7015型为D184.15*L177*T3.8mm、P7025型为D184.15*L177*6.35mm。
在外观表面缺陷方面，基片对材质及加工质量要求非常高，需要在暗室使用50000Lm照度下进行检测，不允许有下列缺陷：裂纹、面凹坑、不透明杂质、气泡、条纹、凸棱、切割缺陷、擦伤及其他任何不能100%清除的污染等。
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