
SiCl4的物理性质和化学性质
分子量 | 液体相对密度 | 蒸发相对密度 | 熔点/℃ | 沸点/℃ | 蒸发热/(kcal/mol) | 生成热/(kcal/mol) | 标准生成自由能/(kcal/mol) |
169.2 | 1.41 | 0.063 | -70 | 57~60 | 2909.3 | 6420.5 | 572.2 |
注:1kcal=4.18kj
工业上SiCl4的制备实在450~500℃下,将氯气通入含硅量大于95%~99%、粒度3~5mm的硅铁中制得,氯气使用前应脱水净化处理。化学反应如下:

该反应为放热反应,炉内温度随反应加剧而升高,故需控制氯气流量防止反应温度过高,温度过高易生成Si2Cl6、Si3Cl8。反应生成的的Si2Cl4蒸气流入冷凝器,冷却成液体Si2Cl4流入贮罐备用。
SiCl4的另一个来源是综合利用半导体工业制造多晶硅的废料——SiHCl3的高沸点残液,其中主要成分为SiCl4,约占70%。
以上方法制备的SiCl4中通常含有大量杂志氯化物。由于石英玻璃的纯度主要取决于原料纯度,因此SiCl4纯度对合成石英的质量至关重要。提纯SiCl4的方法很多,有精馏、故土吸附、萃取、部分水解、络合等。目前国内多采用精馏提纯,即利用SiCl4与杂质氯化物的沸点不同,进行分馏而制取高纯SiCl4。SiCl4原料中各种氯化物的沸点示于下表:
组分 | 沸点/℃ | 组分 | 沸点/℃ |
SiHCl SiH2Cl2 BCl3 SiHCl3 SiH4 PCl3 CCl4 POCl3 |
-30.4 8.3 13 31.5 -111.8 76 77 108.3 |
SnCl4 CrO2Cl2 VOCl3 AsCl3 TiCl4 PCl5 AlCl3 其他金属杂志氯化物 |
113 116.7 127 130 136 160 180(升华) >200 |
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