真空蒸镀法是利用真空状态下分子运动特性的一种工业镀膜方法。物质所在空间的压力等于它在这一温度的饱和蒸气压时，此物质就会大量蒸发出蒸气分子。在真空室内，物质达到饱和蒸气压的温度将大大降低，例如：金属铝在大气压(0.1MPa)下需要加热到2467摄氏度才能大量蒸发。但如果在真空度为10-4Pa的空间里，仅需要加热到768摄氏度，铝就可以蒸发。真空蒸镀法就是利用各种金属在真空中，气体分子的平均自由程加大导致蒸发速度加快的特性进行镀膜工艺的方法。具体实施的方法是将待镀膜的洁净的玻璃基片置入真空室中，同时将所镀的金属(一般用金属丝)放入真空室中的钨丝圈内。将真空室抽至高真空中，同时将所镀的金属(一般用金属丝)放入真空室中的钨丝圈内。将真空室抽至高真空(一般为5*10-2~1.3*10-3Pa),此时向钨丝圈通电，它产生的高温足以使所放入的金属丝在真空度下完全蒸发。金属蒸气质点沉积在玻璃表面上，形成一层具有一定黏结强度的金属膜。玻璃基片在真空室的放置方法有两种：一种是每两片玻璃为一组叠着放置，相靠的一面没有金属膜，向外的一面则镀上一层金属膜;另一种是两片玻璃相对垂直放置，中间排列若干组钨丝圈及金属丝，相向的一面镀上金属膜。若蒸发的金属是铝而膜层又较厚时，所制得的产品为铝镜。若蒸发的金属为热反射膜膜料，而膜层的厚度又较薄时，则所制得的产品为热反射膜玻璃。
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