在IC芯片制造过程中，石英玻璃因高纯度、耐高温、低的热膨胀等优良性能而被大量采用。如：在对单晶硅片进行掺杂、扩散、氧化、退火等关键工序中使用的石英玻璃扩散管；硅片外延工序使用的石英钟罩；硅片酸洗和超声波清洗工序使用的花篮、支架；硅片扩散工序使用的硅片承载器（石英玻璃舟）；拉制单晶硅工序中使用的石英坩埚等。
石英玻璃扩散管是电子半导体工业中使用的极其重要、应用广泛和用量较大的石英玻璃制品，其纯度、抗高温变形性能、几何尺寸和外观质量性能直接影响集成电路和器件的质量、成本和生产效率。它的发展趋势是大规格、高纯度和长寿命。目前使用的规格尺寸直径一般为200~500mm，该类石英玻璃管通常是采用两步法成型工艺：第一步制备空心石英玻璃坨；第二步在二次成型机上离心扩管至需要的尺寸。为了提高石英玻璃扩散管抗高温变形能力，通常采用管壁高温涂层工艺，在管内表面施以高纯SiO2涂层，外表面喷涂Al2O3或喷涂SiC涂层，然后经高温火焰处理，使管外层形成起骨架作用的微晶层，此工艺将显著提高石英玻璃的抗高温变形能力（从1200℃可提高到1280℃），使用寿命提高1~2倍，减少清炉的次数，降低消耗，提高生产效率。
目前国内硅单晶年产量为2000t以上，用于制作分离器件和线路级单晶各占200t左右，其余太阳能硅单晶，并以每年近30%的速度增长。太阳能单晶的生产由国外转入中国的趋势明显，国内目前约1000台单晶炉，2005年国内石英坩埚总需求量超过了20万只。
石英坩埚是用高纯石英粉为原料，用气炼熔融法或电弧熔融法制造的透明或半透明高纯度坩埚，SiO2含量根据单晶硅的应用场合（太阳能级、IC级）差别较大，通常需在99.99%以上；规格尺寸根据拉制单晶硅尺寸而异，目前一般为8~24in(lin=2.54cm)。石英坩埚的发展趋势是增大尺寸、提高纯度和改善抗高温形变性能。现阶段尽管我国生产单晶硅和石英坩埚的厂家很多，但IC行业单晶硅用石英坩埚几乎全部依赖进口，即使生产太阳能级单晶用石英坩埚的原料我国都无法稳定提供，尚需进口美国公司的原料，这主要受制于我国石英原料的纯度、稳定性（原料处理的工艺技术及装备）及坩埚的制备工艺技术。
- 支架是放在单晶硅扩散炉管前，作为石英舟入炉和出炉的托架，支托数个承载单晶硅片的石英舟，并运载石英舟进行扩散炉内进行单晶硅片的扩散、氧化、退火处理。
- 石英舟是单晶硅片扩散、氧化、CVD沉积、退火处理不可缺少的石英玻璃承载器具，目前应用的石英玻璃舟根据单晶硅片生产尺寸和处理工艺，各厂规格尺寸各不相同，没有固定规格和形式，尺寸上已达12in(lin=2.54cm)以上；形式上有卧式舟、立式舟；材料上有石英玻璃，也有用SiC材料。
- 石英玻璃花篮是用于硅片的酸洗和超声波清晰的承载器具。
- 石英玻璃清洗槽（缸）是清洗过程洗涤液的盛装容器，规格尺寸各厂使用的各不相同。
硅片外延是半导体器件与集成电器生产中的关键工艺之一，一般立式外延炉。其炉体使用带法兰的大直径半透明石英玻璃钟罩，钟罩的尺寸取决于外延炉和要外延硅片的尺寸，最大的外延炉直径已超过1000mm。
石英玻璃法兰是单晶硅片扩散、氧化、CVD沉积炉中与石英玻璃扩散管配套使用的石英玻璃制品，主要起连接作用，规格尺寸取决于扩散管的尺寸。应用中对石英玻璃的纯度、耐温性能、尺寸精度有较高的要求。
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